Технология получения германия в плазменном разряде

Разработана лабораторная технология получения германия в плазменном разряде смеси SiF₄ или GeF₄ и водорода кремния и водорода. Впервые в одноступенчатом процессе из изотопно-обогащенных фторидов получены: слои нанокристаллического кремния с содержанием изотопа ²⁸Si более 99,95% и германия с содержанием изотопа ⁷⁴Ge — 86% и ⁷²Ge — 50%. Эффективность конверсии фторидов в порошки достигает 56% для Si и более 75% для Ge, что позволило вырастить методом Чохральского образцы поликристаллического Si и монокристаллов изотопа ⁷⁴Ge с обогащением 83%.