Ионно-плазменный комплекс для нанесения и обработки тонкопленочных структур «Аврора»

Установка предназначена для изготовления следующих структур:

• одно и многослойных структур, состоящих из диэлектрических и металлических пленок, включая антиферромагнитные, ферромагнитные, сверхпроводящие пленки на Si и других подложках;
• реактивное напыление диэлектрических и металлических слоев в атмосфере различных газов;
• формирование туннельнопрозрачных диэлектрических слоев, в том числе MgO и Al₂O₃ (распыление с диэлектрических мишеней MgO и Al₂O₃).