РусскийEnglish
ИФМ РАН / Научные направления / Светоизлучающие структуры Si:Er

Светоизлучающие эпитаксиальные структуры Si:Er/Si и Si:Er/SOI

Одно из основных направлений работы института — исследование транспортных и оптических свойств полупроводниковых наногетероструктур, включая физику сверхрешеток и систем с квантовыми ямами и квантовыми точками, оптику наноструктур, разработку новых типов полупроводниковых лазеров, изучение магнитотранспортных свойств полупроводниковых наноструктур. Институт занимает лидирующие позиции в области физических и технологических основ кремниевой оптоэлектроники. Развиваются методы молекулярно-пучковой эпитаксии светоизлучающих структур на основе SiGe/Si и Si: Er/Si, исследуются механизмы излучения и поглощения света этими структурами в ближнем ИК-диапазоне, физические принципы фотоприемников, светодиодов и лазеров на их основе.

Светодиоды Si: Er/Si

Излучаемая мощность на длине волны λ =1.54 мкм составляет до 5 мкВт.





Излучательный центр Er-1 с рекордным сечением поглощения в волноводных струкутрах Si: Er/SOI



«Запасённая» электролюминесценция в светодиодах Si: Er/Si и элемент памяти с оптическим выходом

© 2000—2024, ИФМ РАН.
E-mail: director@ipmras.ru

Фактический адрес: ул. Академическая, д. 7, д. Афонино, Нижегородская обл., Кстовский район, 603087, Россия
Схема проезда, Документ WordТелефоны сотрудников (240 Kбайт)

Tелефон: (831) 417–94–73,
Факс: (831) 417–94–64,
Адрес для писем: ГСП-105, Нижний Новгород, 603950, Россия